CN119388050A 一種殼體的制作方法、殼體及電子設(shè)備 (北京小米移動軟件有限公司)_第1頁
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文檔簡介

2提供殼體基材,所述殼體基材包括第一表面,所述第對所述初始?xì)んw上的所述目標(biāo)位置對應(yīng)的所述外觀層進(jìn)行去除在第一預(yù)設(shè)條件下,采用第一激光照射所述目標(biāo)位采用第二激光照射所述殼體基材的所述第一表面的所述7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的殼體的制作方法,其特征在于,所述第二激光的激光功率為345[0018]本公開的一些實施例中,所述第一預(yù)設(shè)條件包括:所述第一激光的激光功率為[0022]本公開的一些實施例中,在采用第二激光照射所述第一表面的所述目標(biāo)位置之6體表面相鄰兩部分之間,單位長度內(nèi)互相牽引的力,單位為牛頓/米(N/m)或達(dá)因/厘米7[0052]本公開提供的殼體基材的第一表面的目標(biāo)位置的達(dá)因值高于其它位置的達(dá)因值,酸酯)、PMMA(poly(methylmethacrylate),聚甲基丙烯酸甲酯)、PET(Poly(ethylene裝飾層11和基材層12形成的殼體基材10的厚度可以為[0056]圖案層14可以包括技術(shù)人員預(yù)先設(shè)計的圖案和/或紋理,由于裝飾層11和基材層層11和基材層12透射的情況下呈現(xiàn)具有一定的圖案和紋理,使得殼體具有一定的外觀效果。示例性地,圖案層14可以采用膠印工藝和/或轉(zhuǎn)印工藝形成,圖案層14的厚度可以為8體基材10以及覆蓋第一表面13的外觀層21構(gòu)成初始?xì)んw20,外觀層21用于保護(hù)殼體基材[0062]示例性地,可以采用激光鉆孔(1aserdrilling)或者刻蝕(etching)等工藝對目標(biāo)位置對應(yīng)的外觀層21進(jìn)行處理,刻蝕可以是干法刻蝕(Dryetching)或濕法刻蝕(Wet成開口30。化學(xué)性刻蝕利用等離子體氣體中的化學(xué)活性原子團(tuán)與被刻蝕材料發(fā)生化學(xué)反9括第一激光的激光功率和第一激光的加工速率。示例性地,第一激光的激光功率可以為[0076]步驟S303中,第一預(yù)設(shè)條件可以是技術(shù)人員預(yù)先設(shè)置的激光照射機(jī)臺的運(yùn)行參而使得激光發(fā)射頭50發(fā)射預(yù)設(shè)光線對目標(biāo)位置對響區(qū)域較小,可以減小對初始?xì)んw20的強(qiáng)度影響,使得得到的殼體100具有良好的機(jī)械強(qiáng)[0085]本實施例中,步驟S401與上述實施例示出的步驟S101相同或類似,S403至步驟位置的照射,也可以對形成圖案層14后的殼體基材10的第一表面13進(jìn)行局部位置的照射,者適應(yīng)性變化遵循本發(fā)明的一般性原理并包括本公開未公開的本技術(shù)領(lǐng)域中的公知常識

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