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文檔簡介
真空開關(guān)觸頭動(dòng)態(tài)位置檢測分析真空開關(guān)電弧形態(tài)及其變化規(guī)律對(duì)真空開關(guān)開斷性能有著重要影響,而觸頭動(dòng)態(tài)開距大小是影響電弧形態(tài)變化重要因素,如何準(zhǔn)確檢測觸頭動(dòng)態(tài)位置從而計(jì)算觸頭動(dòng)態(tài)開距具有重要的意義。真空開關(guān)電弧圖像灰度分布不均,燃燒的電弧灰度值高、觸頭灰度值低,并且電弧燃燒形態(tài)劇烈變化等因素制約了電弧圖像中觸頭位置的準(zhǔn)確檢測。本文提出了一種新的真空開關(guān)電弧圖像觸頭位置檢測算法,該算法將數(shù)字圖像處理技術(shù)運(yùn)用到真空開關(guān)電弧圖像分析中,在二值化電弧圖像中分別檢測電弧的上、下邊緣,最后將檢測到的上、下邊緣開展直線擬合,實(shí)現(xiàn)了動(dòng)、靜觸頭在圖像中位置的高精度檢測。實(shí)驗(yàn)結(jié)果說明:本算法能夠有效地檢測出電弧圖像的上、下邊緣,并通過計(jì)算得到電弧圖像中靜觸頭及動(dòng)觸頭的位置。
隨著國家經(jīng)濟(jì)迅速發(fā)展,工業(yè)和農(nóng)業(yè)用電需求日益增強(qiáng),使得我國的電網(wǎng)規(guī)模愈加龐大,電壓等級(jí)逐步提高,隨之對(duì)電力系統(tǒng)的控制和保護(hù)設(shè)備也提出了更高的要求。真空開關(guān)是電力系統(tǒng)的重要控制和保護(hù)設(shè)備,其構(gòu)造設(shè)計(jì)的優(yōu)化、可靠性的提高及使用壽命的延長等方面研究成了學(xué)者們關(guān)注的熱點(diǎn)。而這些熱點(diǎn)問題中,功能的可靠性的關(guān)鍵問題在于如何調(diào)控電弧的熄滅使得真空開關(guān)能夠有效通斷;使用壽命方面的一個(gè)重要問題是如何防止電弧集聚對(duì)觸頭表面造成破壞;因此真空開關(guān)電弧形態(tài)特性的研究成了關(guān)鍵問題。目前,真空開關(guān)電弧形態(tài)的研究大部分是基于高速攝像機(jī)CMOS(ComplementaryMetalOxideSemiconductor)或CCD(ChargeCoupledDevices)拍攝下電弧燃燒的序列圖像,再利用圖像處理技術(shù)從序列圖像中提取關(guān)鍵信息的方案。高速攝像機(jī)CMOS及CCD技術(shù)的不斷進(jìn)步,為電弧形態(tài)研究打下堅(jiān)實(shí)的硬件根底,也使得基于電弧圖像的電弧形態(tài)研究成了熱點(diǎn)并且取得了豐碩研究成果。
真空開關(guān)電弧燃燒是一個(gè)復(fù)雜的物理過程,真空開關(guān)的電參數(shù)、機(jī)械參數(shù)、磁參數(shù)等都將對(duì)電弧形態(tài)產(chǎn)生影響。目前國內(nèi)外學(xué)者們針對(duì)真空開關(guān)的電參數(shù)(例如電壓電流)、磁參數(shù)(觸頭的縱磁場)對(duì)電弧形態(tài)影響方面做了較為深入的研究,但在機(jī)械參數(shù)對(duì)電弧形態(tài)的研究方面還很欠缺。國內(nèi)王立軍從仿真及實(shí)驗(yàn)的角度分別研究了電極間距對(duì)電弧形態(tài)的影響;姜生從觸頭的靜態(tài)開距、動(dòng)態(tài)開距等幾個(gè)角度分析了真空開關(guān)的機(jī)械特性,而姜生也提到利用傳感器所測量的觸頭動(dòng)態(tài)開距有較大誤差,對(duì)于準(zhǔn)確分析電弧特性是不利的。國外SchulmanMB等提出分閘過程中,隨著觸頭位置變化電弧形態(tài)會(huì)由集聚型轉(zhuǎn)變?yōu)閿U(kuò)散型,集聚型電弧會(huì)導(dǎo)致觸頭的燒蝕,因此希望分閘過程中盡快到達(dá)擴(kuò)散型電弧開距防止集聚型電弧。因此,真空技術(shù)網(wǎng)(http:///)認(rèn)為如何在電弧圖像中識(shí)別動(dòng)觸頭位置、計(jì)算觸頭動(dòng)態(tài)開距,實(shí)現(xiàn)觸頭動(dòng)態(tài)開距與電弧形態(tài)的數(shù)量化分析是有意義的。算法開發(fā)過程中發(fā)現(xiàn),傳統(tǒng)的數(shù)字圖像目標(biāo)檢測算法無法用于電弧圖像中觸頭位置的檢測。
本文基于真空開關(guān)電弧燃燒序列圖像,檢測電弧的上、下邊緣,并對(duì)邊緣檢測結(jié)果開展直線擬合計(jì)算出動(dòng)、靜觸頭的位置,為后續(xù)觸頭開距對(duì)電弧形態(tài)影響的研究打下根底。
目標(biāo)檢測算法
圖像處理的分析技術(shù)主要包括以下幾個(gè)方面:圖像預(yù)處理、運(yùn)動(dòng)目標(biāo)自動(dòng)檢測、運(yùn)動(dòng)目標(biāo)跟蹤、運(yùn)動(dòng)目標(biāo)分類以及運(yùn)動(dòng)目標(biāo)定位等。運(yùn)動(dòng)目標(biāo)檢測處于圖像處理的最底層,是后續(xù)各種高級(jí)處理如目標(biāo)分類、行為理解等的根底。目前的運(yùn)動(dòng)目標(biāo)檢測算法主要有:光流法、幀間差分法、背景差分法、模板匹配法和特征提取法。相對(duì)日常的圖像,真空開關(guān)電弧如圖1,燃燒時(shí)具有如下特點(diǎn):電弧圖像灰度分布不均勻,電弧部分灰度值大、亮度高,而其它部分灰度值小亮度低,并且隨著電弧燃燒形態(tài)的變化同一像素點(diǎn)幀間灰度值也會(huì)發(fā)生劇烈變化;電弧燃燒過程中會(huì)出現(xiàn)液滴噴濺,使得觸頭圖像區(qū)域也會(huì)出現(xiàn)電弧影像;電弧的形狀變化莫測沒有規(guī)律性,特征角點(diǎn)不清晰,且很難在幀間完成特征點(diǎn)的匹配;電弧圖像的質(zhì)量很大程度上取決于高速拍攝相機(jī)的分辨率?;谏鲜稣f法,由于觸頭位置灰度值較低,無法將背景與觸頭目標(biāo)分割,同時(shí)灰度值劇烈變化使得無法在幀間對(duì)觸頭特征開展匹配或是開展觸頭的模板匹配,在拍攝硬件分辨率低的情況下也無法開展觸頭的特征檢測。
綜上所述,由于電弧圖像的特殊性,運(yùn)用現(xiàn)有的目標(biāo)檢測算法無法從電弧圖像中直接檢測觸頭位置。分析電弧圖像發(fā)現(xiàn),電弧圖像的上、下邊緣分別為靜觸頭和動(dòng)觸頭的位置,從而可以通過檢測電弧上、下邊緣的方法檢測觸頭位置,防止了直接從圖像中檢測觸頭位置的難題。
圖1彩色電弧圖像圖2電弧二值化圖像
結(jié)論
利用本文算法處理電弧圖像,分別在單幀電弧圖像和序列電弧圖像中檢測動(dòng)、靜觸頭位置。經(jīng)過多次實(shí)驗(yàn)檢測發(fā)現(xiàn):
(1)在真空開關(guān)電弧圖像中,電弧上下邊緣的位置即分別為靜觸頭、動(dòng)觸頭的位置。
(2)電弧上、下兩條邊緣并非理想中的直線,其原因主要有兩個(gè):第一、劇烈燃燒的電弧飛濺到兩觸頭間隙的外側(cè),使得觸頭邊緣圖像受到高亮度電弧的影響而不再是直線。第二、觸頭片局部受到電弧的燒蝕作用而出現(xiàn)熔融現(xiàn)象,也使得電弧圖像中電弧的下邊緣并非直線。
(3)利用直線擬合的方法,可將所檢測到的上、下邊緣擬合為直線,擬合后直線的位置能更準(zhǔn)確地
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