GB/T 11379-2008金屬覆蓋層工程用鉻電鍍層

犐犆犛２５．２２０．４０

犃２９

中華人民共和國國家標準

犌犅／犜１１３７９—２００８／犐犛犗６１５８：２００４

代替ＧＢ／Ｔ１１３７９—１９８９

金屬覆蓋層工程用鉻電鍍層

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（ＩＳＯ６１５８：２００４，ＩＤＴ）

２００８０６１９發布２００９０１０１實施

中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局

發布

中國國家標準化管理委員會

書

犌犅／犜１１３７９—２００８／犐犛犗６１５８：２００４

目次

前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅲ

引言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅳ

１范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

２規范性引用文件!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

３術語和定義!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!２

４向供方提供的資料!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!２

５標識!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!２

６要求!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!４

７抽樣!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!５

附錄Ａ（資料性附錄）工程用鉻電鍍層的典型厚度!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!６

附錄Ｂ（資料性附錄）鉻及其他金屬鍍層厚度的測量方法!!!!!!!!!!!!!!!!!!７

附錄Ｃ（規范性附錄）鉻電鍍層的裂紋和孔隙的測量!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!８

參考文獻!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!９

Ⅰ

書

犌犅／犜１１３７９—２００８／犐犛犗６１５８：２００４

前言

本標準等同采用ＩＳＯ６１５８：２００４《金屬覆蓋層工程用鉻電鍍層》（英文版）。

本標準根據ＩＳＯ６１５８：２００４翻譯起草。

為了便于使用，本標準做了下列編輯性修改：

———刪除國際標準的前言，增加了我國標準前言；

———“本國際標準”一詞改為“本標準”；

———引用了與國際標準相對應的國家標準。

本標準代替ＧＢ／Ｔ１１３７９—１９８９《金屬覆蓋層工程用鉻電鍍層》。與ＧＢ／Ｔ１１３７９—１９８９相比主

要變化如下：

———增加了引言和標識；

———修改了鉻電鍍層的要求；

———刪除了工程用鉻電鍍層的特性、應用實例及有關說明；

———增加了工程用鉻電鍍層的典型厚度；

———刪除了噴丸強度的測量方法。

本標準的附錄Ｃ為規范性附錄，附錄Ａ、附錄Ｂ均為資料性附錄。

本標準由中國機械工業聯合會提出。

本標準由全國金屬與非金屬覆蓋層標準化技術委員會（ＳＡＣ／ＴＣ５７）歸口。

本標準起草單位：武漢材料保護研究所、廣州市達志化工科技有限公司、南京晶晶表面技術有限公

司、杭州天堂傘業集團有限公司。

本標準主要起草人：張德忠、毛祖國、蔡志華、賈建新、張升達、王奇偉、何杰。

本標準所代替標準的歷次版本發布情況為：

———ＧＢ／Ｔ１１３７９—１９８９。

Ⅲ

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引言

工程用鉻電鍍層與裝飾性鉻一樣，通常采用六價鉻電鍍。然而工程用鉻電鍍層一般比裝飾性鉻電

鍍層厚。常規或傳統鉻是最常用的類型，多孔鉻、裂紋鉻、尺寸鍍鉻和雙層鉻也用來獲得貯油的或抗不

粘結的表面，或提高耐蝕性。

工程用鉻電鍍層常在基體金屬上直接電鍍，以提高耐磨性，增強抗摩擦腐蝕能力，減小靜摩擦力或

動摩擦力，減小“咬死”或粘結，增強耐蝕性以及修復尺寸偏小或磨損的工件。為防嚴重腐蝕，電鍍鉻前

可采用鎳或其他金屬底鍍層，或采用合金電鍍來提高鉻鍍層的耐蝕性，如鉻鉬合金電鍍。

Ⅳ

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金屬覆蓋層工程用鉻電鍍層

１范圍

本標準規定了黑色和有色金屬上的有或無底鍍層的工程用鉻電鍍層的要求。電鍍層標識提供了一

種表示典型工程應用的鉻電鍍層的厚度的方法。

２規范性引用文件

下列文件中的條款通過本標準的引用而成為本標準的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有

的修改單（不包括勘誤的內容）或修訂版均不適用于本標準，然而，鼓勵根據本標準達成協議的各方研究

是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標準。

ＧＢ／Ｔ３１３８金屬鍍覆和化學處理與有關過程術語（ＧＢ／Ｔ３１３８—１９９５，ｎｅｑＩＳＯ２０７９：１９８１）

ＧＢ／Ｔ４９５５金屬覆蓋層覆蓋層厚度測量陽極溶解庫侖法（ＧＢ／Ｔ４９５５—２００５，ＩＳＯ２１７７：

２００３，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ４９５６磁性基體上的非磁性覆蓋層覆蓋層厚度測量磁性法（ＧＢ／Ｔ４９５６—２００３，

ＩＳＯ２１７８：１９８２，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ５２７０金屬基體上的金屬覆蓋層電沉積和化學沉積層附著力強度試驗方法評述

（ＧＢ／Ｔ５２７０—２００５，ＩＳＯ２８１９：１９８０，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ６４６２金屬和氧化物覆蓋層厚度測量顯微鏡法（ＧＢ／Ｔ６４６２—２００５，ＩＳＯ１４６３：２００３，

ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ６４６３金屬和其他無機覆蓋層厚度測量方法評述（ＧＢ／Ｔ６４６３—２００５，ＩＳＯ３８８２：２００３，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ９７９０金屬覆蓋層及其他有關覆蓋層維氏和努氏顯微硬度試驗（ＧＢ／Ｔ９７９０—１９８８，

ｎｅｑＩＳＯ４５１６：１９８０）

ＧＢ／Ｔ１２３３２金屬覆蓋層工程用鎳電鍍層（ＧＢ／Ｔ１２３３２—２００８，ＩＳＯ４５２６：２００４，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ１２３３４金屬和其他非有機覆蓋層關于厚度測量的定義和一般規則（ＧＢ／Ｔ１２３３４—２００１，

ＩＳＯ２０６４：１９９６，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ１２６０９電沉積金屬覆蓋層和相關精飾計數檢驗抽樣程序（ＧＢ／Ｔ１２６０９—２００５，

ＩＳＯ４５１９：１